據媒體報導，5月13日韓國產業通商資源部(The Ministry of Trade, Industry and Energy，MOTIE)對外宣布，全球光刻機龍頭大廠阿斯麥(ASML)計劃赴韓國打造EUV 再制造(remanufacturing)廠及培訓中心。

據介紹，ASML未來4年將在韓國投資2,400億韓元(2.1億美元)，于京畿道華城市打造一座EUV光刻設備再制造廠以及一家培訓中心。所謂再制造，是指通過必要的拆卸、檢修和零部件更換等，將廢舊產品恢復如新的過程。

想要打造先進制程的半導體生產線，一定要設法取得關鍵半導體設備。應用材料、ASML、泛林半導體、東京電子是全球前四大半導體設備廠商，總體的市占率高達60%左右。問題是，這些半導體設備廠每年只能生產一定數量的機臺，交貨時間也比較長。

特別是對于7nm以下先進制程所必須的EUV光刻機來說，目前ASML是全球唯一一家能夠生產EUV光刻機的半導體設備供應商。但是目前ASML的EUV光刻機產能十分有限，一年只能生產30臺左右EUV光刻機。

據媒體報道稱，目前臺積電已取得了50臺EUV設備，而三星僅有10臺。

此次ASML計劃在韓國新建的EUV再制廠，主要用途就是為韓國當地運行的EUV光刻機維護、升級提供助力。

據了解，韓國MOTIE及京畿道政府將針對ASML的授權、擴張當地業務事宜提供協助。而上述設施預計2025年底前落成，未來將在韓國聘用超過??300名專業人才。

另外值得一提的是，報道還指出，目前美國半導體設備大廠泛林半導體(Lam Research Corp.)將擴大對韓國的投資南。報道引述業界消息指出，泛林半導體已將韓國的生產目標提高一倍，正在尋找合適的地點建立新廠，以便擴充產能。

關鍵詞： 光刻機

責任編輯：Rex_07